| 命题方式 |
招生单位自命题 |
科目类别 |
初试 |
| 满分 |
150 |
| 考试性质 |
| 考试方式和考试时间 |
| 试卷结构 |
| 考试内容和要求 |
| （一）辐射度学与光度学 |
| 辐射度学基本概念与光度学参数。 |
| （二）激光原理与技术 |
| （1）光与物质相互作用理论，激光产生条件与基本结构； |
| （2）激光器基本原理； |
| （3）激光技术：脉冲技术、选模技术、锁模技术、稳频技术、倍频技术等。 |
| （4）高斯光束：特性，高斯光束的准直、聚焦与模式匹配，用q参数、ABCD定则分析高斯光束。 |
| （三）光传输理论与技术 |
| （1）平面介质光波导理论（射线分析与波动分析）； |
| （2）光纤传播理论与基本特性； |
| （3）光在电光、声光以及磁光晶体中的传播。 |
| （四）光调制技术 |
| （1）光辐射调制方法； |
| （2）电光调制技术：强度调制(纵向与横向)、位相调制(纵向与横向)、电光偏转技术 |
| （3）声光调制技术：拉曼奈斯衍射、布拉格衍射，声光调制原理，声光调制器衍射效率分析； |
| （4）磁光调制技术：旋光效应与磁光效应，法拉第效应，磁光调制器与光隔离器。 |
| （五）光电探测技术 |
| （1）光电探测器参数、光电探测方式； |
| （2）光电探测的物理效应； |
| （3）常见光电探测器的基本结构与参数。 |
| （六）光电成像与显示技术 |
| （1）光电成像原理，CCD成像技术； |
| （2）液晶显示技术、等离子体显示技术、LED显示技术、电致与场致发光显示技术 |
| 参考书目 |
| 《光电子技术基础（第二版）》，朱京平著，科学出版社，2009。 |